info@hxcnc.com Shenzhen, Китай Відповідь протягом 24 годин
Категорія продукції
Отвір ±0,005 · Ra 0,4 · Гелієва герметичність 1e-8 · Багатозонний · Мінімальне замовлення 1
ВВП / 001 — 010

Ультра-чистий CNC
Розподільчі plates

Ультра-чисті пластини розподілу газу для напівпровідників, оброблені на ЧПУ — внутрішній канал потоку Ra 0,4 мкм, діаметр отвору ±0,005 мм, положення отвору ±0,01 мм, плоскість ущільнювальної поверхні ≤ 0,008 мм, швидкість витоку гелію < 1×10⁻⁸ мбар·л/с. Для подачі газу в камери процесів CVD, ALD, травлення та MOCVD — включаючи багатозонні конфігурації з контролем щільності отворів у центрі та на краю.

±0.005mm
Діаметр отвору.
Ra 0.4µm
Внутрішній канал.
1e-8
Витік He
КРЕСЛЕННЯ ДЕТАЛІ · GDP-001 ДУШОВА ГОЛОВКА · SUS316L EP · Ra 0,4 · ГЕЛІЄВА ГЕРМЕТИЧНІСТЬ 1e-8 ISO 9001 · ЕЛЕКТРОПОЛІРУВАННЯ · КООРДИНАТНО-ВИМІРЮВАЛЬНА МАШИНА
Отвір ±0,005
Багатозонна щільність
ПЛИТА РОЗПОДІЛУ ГАЗУ · ВИД ЗВЕРХУ SUS316L EP · Ø200 · 121 ОТВІР · Ra 0,4 ±0,005 Ø В VCR ЦЕНТРАЛЬНА ЗОНА · Ø0,4 щільна КРАЙОВА ЗОНА · Ø0,3 розріджена Витік He ✓ < 1×10⁻⁸ мбар·л/с Ø200 · 121 отвір ПОПЕРЕЧНИЙ РОЗРІЗ · ОТВІР EP Ra 0,4 · пленум + струмінь A ПРОЦЕС · ТИП CVD душова головка ◀осадження ALD пластинаатомний шар камера травленняRIE · DRIE MOCVD · PECVDспеціалізований ІНТЕРФЕЙС · СТАНДАРТ VCR ущільнення ◀Swagelok CF ConFlatUHV ніж KF / ISO-KFсередній вакуум Індивідуальне ущільненнякреслення специфікації ЗОНА · ЩІЛЬНІСТЬ ОДНОРІДНИЙ МУЛЬТИ-Z ЦЕНТР+КРАЙ ◀ КОРИСТУВАННЯ Ø0,2–Ø2,0 мм ОТВІР ДО 500 ОТВОРІВ/ПЛАСТИНА МАТЕРІАЛ · ЧИСТОТА SUS316L EP ◀Ra 0,4 + пасивовано Al 6061 тверде анодуваннянекорозійний газ Ti Грейд 5агресивний газ He-протікання < 1×10⁻⁸UHV: 1e-10 доступно Упаковка класу ISO 5Промивка N₂ + пакет МАСШТАБ 1:1 · ММ
CVD · ALD · Травлення · MOCVD · PECVD · Епітаксія
Застосування
SUS316L EP · Al 6061 · Ti Грейд 5
Матеріали
48hr Цитата · 8-дневний прототип · MOQ 1
Послуга
<1×10⁻⁸
Хід витоку
Тест на гелій mbar·l/s
±0.005мм
Діаметр отвори
точне свердління
Ra 0.4µм
Внутрішній канал
електрополіровка
8 днів
Найшвидша доставка
макети замовлення
Виклики обробки

Виклики розподільної пластини газу

Розподільні пластини газу для камер обробки напівпровідників вимагають найвищого рівня чистоти, рівномірності потоку та герметичності серед усіх виробів ЧПУ.

💨
Рівномірність отворів для рівномірності процесу
Нерівномірні діаметри отворів спричиняють нерівномірний потік газу по всій пластині — що безпосередньо впливає на нерівномірність товщини плівки або швидкості травлення. HXC забезпечує діаметр отвору ±0.005 мм для всіх отворів, перевірено на CMM або оптичному мікроскопі.
🧼
Ультра-чисті внутрішні канали
Процесні гази не повинні забруднюватися залишками обробки. Всі внутрішні канали електрополіровані до Ra 0,4 мкм, ультразвуково очищені IPA та протестовані на герметичність гелієм. Будь-які залишки можуть виділятися у процесне середовище.
🔒
Герметичні ущільнювальні інтерфейси
Розподільні пластини газу в камерах працюють при тиску від вакууму до кількох бар. Кожен ущільнювальний інтерфейс має бути протестований на герметичність до <1×10⁻⁸ мбар·л/с перед встановленням у камеру.
Наша Робота

Розподільні пластини газу, які ми виготовили

Реальні ЧПУ оброблені напівпровідникові компоненти — очищені, інспектовані та запаковані в чисту кімнату.

Замовити Подібну Деталь →
Пластина для душової головки CVDSUS316L · CVD
Пластина для душової головки CVD
Отвір ±0,005 мм · Електр. · 5 шт.
Пластина розподілу газу ALDAl 6061 · ALD
Пластина розподілу газу ALD
CF порти · Анодовано · 6 шт.
Газова пластина для травленняSUS316L · Травлення
Газова пластина для травлення
Щільний масив · 4 шт.
Газова душова голівка MOCVDSUS316L · MOCVD
Газова душова голівка MOCVD
Точний отвір · 3 шт.
Пластина для розподілу PECVDAl 6061 · PECVD
Пластина для розподілу PECVD
Багатозонний · 6 шт.
Індивідуальна пластина процесного газуSUS316L · Індивідуальне виготовлення
Індивідуальна пластина процесного газу
R&D · 3 шт.
Пластина розподілу газу для епітаксіїSUS316L · Епітаксія
Пластина розподілу газу для епітаксії
UHV · 2 шт.
Партія газорозподільних пластинAl 6061 · Партія
Пластини розподілу газу — партія
10 шт. · Сертифікат на герметичність He
Можливості та допуски

Що Ми Можемо Доставити

Типові технічні характеристики — підтверджуйте точні вимоги під час запиту.

Швидкість витоку<1×10⁻⁸ мбар·л/с (He)
Внутрішній Ra0,4 мкм (електрополіровка)
Допуск діаметра отвору.±0.005 мм
Плоскість ущільнюючої поверхні≤ 0.008 мм
Стандарти портівVCR, CF, KF, індивідуальні
Чистота частокСумісний з ISO Клас 5
МатеріалиSUS316L, Al 6061, Ti Грейд 5
ЕлектрополіровкаСтандарт — усі газозмочувані
Гелійний тест100% кожна пластина + сертифікат
ОчищенняIPA ультразвук + N₂ + пакет
Термін виготовлення (прототип)8–12 днів
Час виготовлення (партія)14–20 днів
Як це працює

Від креслення до частини, готової для чистої кімнати

Завантажте ваше креслення — огляд DFM, механічна обробка, очищення, контроль та пакування у чистій кімнаті у згадані терміни.

01
Завантажити малюнок
STEP, DXF, PDF. Включіть схему отворів, газ і клас чистоти.
02
DFM та цитата
Безкоштовний DFM — виробничість отворів, багатозональна стратегія. Розрахунок за 48 год.
03
Механічна обробка, очищення та тестування
CNC + електрополірування, ультразвукове очищення, ККМ, тест на герметичність He.
04
Доставляємо по всьому світу
Повний звіт про розміри + очищення + сертифікат на герметичність He додається.
Відгуки

Довіряють інженери з обладнання для напівпроводників

★★★★★
"Чистота поверхні та упаковка миттєво відповідали вимогам нашого входного огляду чистої зони. Звіт за розмірами повністю відповідав нашій перевірці CMM."
LW
Лі Вей
Інженер з процесового обладнання · Україна
★★★★★
"HXC зрозумів вимоги до вакуумного герметизації наших компонентів камери без тривалого пояснення. Час виготовлення був exactly as quoted."
SL
Софі Л.
Інженер з проектування обладнання · Україна
★★★★★
"Ми протягом двох років постачаємо обробку пікоподібних та частини камери від HXC. Чистота, розмірна точність та узгодженість партій — відмінні."
JT
Джеймс Т.
Старший закупівельник · Україна
Поширені запитання

Пластини розподілу газу — Поширені питання

Питання з інженерії та закупівель, що відповідає команда компонентів напівпроводників.

Рівномірний розподіл вимагає: (1) Діаметр отвору ±0,005 мм по всіх отворах — відхилення діаметра змінює опір потоку через окремий отвір; (2) Точність розташування отвору ±0,01 мм — забезпечує рівномірний просторовий потік; (3) Однакове падіння тиску у внутрішніх каналах — розподільчий колектор спроектований для однакового опору. Усі три параметри перевіряються ККМ.
Очищення після механічної обробки: (1) Знежирення; (2) Електрополірування усі поверхні, що контактують з газом (Ra 0,4 мкм); (3) Ультразвукова обробка ізопропанолом; (4) Промивання дистильованою водою; (5) Сушка потоком N₂; (6) Інспекція ультрафіолетовою лампою; (7) Упаковка в чистій кімнаті класу ISO 5. Сертифікат підрахунку частинок доступний для пластин напівпровідникового класу.
Так — багатозональні пластини з різною щільністю отворів у центральній та крайових зонах (радіальне керування профілем газу) регулярно обробляються. Межі зон, кількість отворів і діаметри по зонах вказуються на кресленні замовника та перевіряються на КММ.
VCR ущільнення обличчя (Swagelok), CF ConFlat (UHV з ножовою кромкою), KF (ISO 2861), та індивідуальні фланці з ущільненням по торцю. Всі розміри інтерфейсів обробляються згідно специфікації виробника та перевіряються на КММ. Змішані типи інтерфейсів на одній пластині — звичайна практика.
Кожна пластина тестується за допомогою гелієва мас-спектрометрія: під тиском гелію, всі зовнішні поверхні та порти скануються. Швидкість витоку: <1×10⁻⁸ мбар·л/с стандартна (<1×10⁻¹⁰ UHV). Сертифікат містить виміряну швидкість, дату калібрування приладу, дату тесту, підпис оператора.
Так — газорозподільні пластини з інтегрованими отворами для нагрівальних картриджів або канавками для резистивних нагрівачів обробляються в тій самій операції, що й газові канали. Допуск на розташування отвору для нагрівача: ±0,1 мм від стінки газового каналу (мінімальний зазор перевіряється під час DFM). Доступні отвори для встановлення термопари.
Стандартне механічне свердління: Ø0,2 мм мінімум. Для отворів менше Ø0,2 мм використовується високоточне мікросвердління або електроерозійне свердління. Обмеження співвідношення сторін (глибина ÷ діаметр): 10:1 для свердління, до 50:1 для електроерозійного методу. Допуск на отвір зберігається на рівні ±0,005 мм незалежно від методу.
Прототип: 8–12 днів. Партія: 14–20 днів. UHV-пластини з тестом на герметичність 200): додати 2–4 дні.
Отримати кошик

Надішліть свій малюнок.
Отримати пропозицію.

Кожне звернення включає перевірку DFM — перевірку толерантності, підтвердження матеріалу та підхід до процесу, підтверджені до початку виробництва. Мінімальний обсяг замовлення 1 шт.

24hr
Відповідь на пропозицію
Мінімальне замовлення 1
Прототипи OK
ISO
9001:2015
📐
Огляд DFM кожного запиту
Допустимість допусків, стратегія фіксації та підтвердження матеріалу. Конкретні, actionable відгуки — не загальна відмова.
🎯
Перша серія випробувань — стандарт
звіт FAI на кожен новий запуск. Сертифікати на матеріал та обробку поверхні включені з кожною поставкою.
🔄
Той самий процес: від прототипу до виробництва
План процесу з вашого прототипу застосовується до виробничих партій. Ніякої повторної атестації при масштабуванні.
⚙
КНЦ з 3 / 4 / 5 осей + токарна обробка
Складні структурні деталі, валу, корпуси та компоненти трансмісії. Метали та інженерні пластмаси.
ISO 9001:2015 Фрезерування 3/4/5 осей ЧПУ точіння КІМП (CMM) інспекція Глобальна доставка